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長鑫量產(chǎn)首代DDR4/LPDDR4芯片使用工藝為19nm 其良率已達75%

發(fā)布時間:2021-07-29 11:34:23  |  來源:驅(qū)動之家  

2019年9月份,合肥長鑫量產(chǎn)了國內(nèi)首款DDR4內(nèi)存芯片,這兩年來已經(jīng)在多個國產(chǎn)內(nèi)存品牌中商用。

根據(jù)資料,合肥長鑫集成電路制造基地項目總投入超過2200億元,選址位于合肥空港經(jīng)濟示范區(qū),由長鑫12吋存儲器晶圓制造基地(以下簡稱“基地”)、空港集成電路配套產(chǎn)業(yè)園、空港國際小鎮(zhèn)三個片區(qū)組成。

截至2020年底,合肥長鑫12吋存儲器晶圓制造基地項目提前達到4萬片/月產(chǎn)能,今年3月份開始啟動6萬片/月產(chǎn)能建設(shè),實現(xiàn)了從投產(chǎn)到量產(chǎn)再到批量銷售的關(guān)鍵跨越。

內(nèi)存技術(shù)上,長鑫量產(chǎn)的第一代DDR4/LPDDR4芯片是19nm工藝,此前一直沒有公布具體細節(jié),日前兆易創(chuàng)新在一次會議上透露長鑫的19nm工藝良率已達75%。

75%的良率在業(yè)內(nèi)不算頂尖,不過考慮到長鑫生產(chǎn)內(nèi)存不到2年時間,現(xiàn)在的良率表現(xiàn)已經(jīng)不錯了,制造出來還是能保證毛利的。

此外,長鑫的第二代內(nèi)存升級到了17nm工藝,具體良率沒公布,但目前會比較低,還在爬升中。

關(guān)鍵詞: DDR4 內(nèi)存芯片

 

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